其他的两个实验都是物理性质的研究，必须先解决材料才能开始进行。
而石墨烯量子输运中的界面钉扎效应研究实验，对设备稳定性和操作精度要求极高。
以TJ大学现在的设备和能力还做不到。
既然做不到，那就果断放弃。
思路一旦打开，前世积累的无数关键节点、技术壁垒和突破路径如同潮水般涌来。
王子维开始思索突破石墨烯化学气相沉积（CVD）薄膜技术的关键要点：
需从基底选择、气相反应控制、生长机制优化、转移工艺四大核心环节切入。
从后世来看，他太有优势了。
首先是基底。
他知道现在主流是用镍（Ni），学术界普遍认为多层石墨烯是不可控的。
其实恰恰相反，直接放弃镍箔，采用铜箔最好。
采用99.8%纯电解铜箔，厚度25μm作为基底，不过这个数据他需要做实验得到，不能直接写出来。
这里涉及到一个秘密的退火工艺：H₂氛围下1050℃退火2小时，促使铜晶粒长大至>100μm，从而有效抑制成核密度。
不过缺点明显，铜有蒸发污染的风险，需要在石英管下放置铜箔‘捕集器’（温度600度时）
其次，生长参数优化。
2008年的通用参数，温度为900-1000℃，甲烷与氢气比为1:10（高浓度），压力为状态常压，生长时间五到十分钟。
他的优化方案为：温度1060度，甲烷与氢气比为1:1000，压力为状态低压，生长时间30分钟。
温度值上面已经讲了，不多赘述。
在这年代，高甲烷浓度坑了不少人，许多人都被常压里高浓度的甲烷破坏了石墨烯多层成核。
低压，500 mTorr（毫托）约等于66.66帕斯卡，这个状态下可以延长碳扩散的长度。
30分钟，可以实现毫米级单晶畴区；生长时间5到10分钟太少了。
这里的关键操作就是：先通H₂（200 sccm）升温至1060℃，保温30 min还原铜表面氧化物。
再注入极微量CH₄（0.2 sccm）+ H₂（200 sccm）进行生长
这里会出现一个多层岛缺陷，解决办法就是在生长前通5 sccm H₂S 10秒，硫钝化铜台阶边缘。
上面说的这些关键数据，也是需要一点一点做实验得来。
再来是转移技术。
抛弃腐蚀性强的王水法；直接开发的电化学鼓泡法。
电化学鼓泡法要到明年才会被提出来；他又可以塑一道金身，不，写一篇顶刊论文。
电化学鼓包法里面的对于电解液的、电流密度都有要求，是关键数据。
其核心步骤是阴极接铜箔；它可以产生氢气气泡剥离石墨烯。
这有一道关键的工艺；
在转移时很容易出现破损，不过这个很好解决。只要在石墨烯表面旋涂纤维素膜（水溶性）代替PMMA作为支撑层就行。
最后，还有一些关于表征手段的巧用。
可以利用光学显微镜层数判断硅的氧化层数：在SiO₂/Si（285 nm氧化层）上，测量颜色对比度（单层：6-8%反射率差）。
简易拉曼光谱：聚焦D峰（1350 cm⁻¹）评估缺陷，这里的目标ID/IG < 0.05
四探针电阻测试：用银胶制作电极，方块电阻< 1 kΩ/□即成功。
这些可都是捷径，不过也算是关键数据，需要多做实验得到。
完成上面的这么多操作，就能在这个时间得到CVD毫米级单晶、铜基底单层石墨烯。
2008年CVD石墨烯领域仍是空白，若能抓住上述关键；铜基底+超低甲烷浓度+电化学转移。
他将改写二维材料发展史！
还有论文方面，上述那么多的关键数据和工艺秘密可以写不少的顶刊论文，再加点水就更多了。
想到这里，王子维就忍不住兴奋。
更诱人的是利益方面，在专利上，有两大核心的专利需要申请，
一是铜基底低压CVD工艺身躯专利，其中包括保护气体比例、温度范围。
二是电化学鼓泡转移法，电解液和电流密度等等。
这些核心专利在手，他仿佛看到了哗啦啦数不清的大洋飞进口袋。
忍下内心的激动，王子维登上物院的官网，他要看看物院的实验设备是不是齐全。
核心设备需要管式CVD反应炉，不行碳纳米管 CVD炉也行。
还有气体控制系统，这些不用看，在低温试验室见到了！
关键是基底处理设备，其中的超声波清洗机、高温退火炉、电化学抛光槽。
表征观测设备：光学显微镜、拉曼光谱仪、四探针测试台。
浏览过后，这些实验基础设备基本齐全！
剩下的耗材~！
铜箔、碳源、SiO₂/Si片这些都好说，唯独这个PMMA 950K光刻胶；不知道学院里有没有存货。
他立刻着手，将这份凝聚了未来十年关键技术的“石墨烯CVD薄膜技术”开题报告整理出来。
挑挑拣拣将能写出来整理完毕，看了一眼时间，马上就要五点钟了。
他拿出手机给陶院长打一个电话，沟通一下这个实验。
没想到电话忙音，转念一想这时候可能还在厅里面开会。
他果断将报告发到院长邮箱，等他看到了会回电话过来的。
邮件发完，王子维长长伸了个懒腰。
充实的一天，又过去了。
他习惯性的检查了一下手机，果然收到了消息。
陶好：晚上下班，要参加辩论队训练，就不回去了。(><)记得好好吃饭~！
王子维嘴角自然上扬，指尖轻点回复：王遵命！你也别饿着，训练加油！❥(^_-)
“每次我来，总能撞见你对着手机傻笑！”李进步的声音带着酸味，突兀地在门口响起，“又在跟你的陶好卿卿我我呢？”
王子维收起手机，神色如常地起身：“时间刚好，我也收工了。走吧！”
他关上电脑起身，走向门口，一点都不回答李进步的话。
李进步轻哼一声，转身带路。
两人刚到楼梯口，就撞见了她办公室的几位同事，为首的是最爱八卦的“红姐”。
“哎哟喂！进步，王教授！”红姐眼睛一亮，嗓门洪亮，“你俩这又是往哪去？”
“红姐，你们出去啊~！”李进步脸上立刻堆起社交笑容：“我老姐来魔都，刚好去接你一下她。”
