从西北戈壁返回北京的专机上，陆泽望着舷窗外翻涌的云层，指尖轻轻敲击着面前的笔记本电脑，屏幕上是国内半导体产业的现状调研报告。西方联合发起的全产业链封锁，远比外界看到的更加凶狠，从芯片设计的源头工具，到制造环节的核心设备，再到封装测试的关键材料，几乎每一个环节都被卡了脖子，国内数百家芯片设计企业陷入无工具可用的困境，多条先进制程生产线因为设备、材料断供，随时面临全面停摆的风险，整个行业都笼罩在一片阴霾之中。
专机落地北京西郊机场，陆泽没有片刻停歇，直接奔赴国家工业与科技发展部，半导体技术攻坚专项组的首次核心会议，早已等候他多时。会议开始前，中央的正式任命文件同步下发，陆泽作为专项组总负责人，被授予了前所未有的最高权限——全国所有科研院所、985高校相关实验室、半导体上下游全产业链企业，必须无条件配合攻坚工作，要人给人、要钱给钱、要设备给设备，所有行政流程全部开绿灯，一切以突破半导体技术封锁、实现全产业链自主可控为最高优先级。
会议室内，早已坐满了国内半导体领域的顶尖院士与专家，他们大多深耕行业数十年，是国内微电子、光刻技术、芯片设计、材料科学领域的泰斗级人物。看着年仅23岁的陆泽走进会场，不少人眼中都难掩疑虑与不解。航天领域的奇迹固然令人敬佩，但半导体行业与航天工程截然不同，光刻机被誉为人类工业皇冠上的明珠，凝聚了全球最顶尖的工业体系成果，国内追了几十年都没能迈过高端光刻机的门槛，一个从未涉足半导体领域的年轻人，真的能带着行业打破西方数十年的垄断吗？
陆泽没有过多的客套寒暄，落座后便直奔主题。他抬手在会议室的大屏幕上，投出了一份完整的半导体全产业链攻坚路线图，从芯片设计EDA软件、光刻机三大核心部件，到光刻胶、高纯度硅片等核心材料，再到先进制程芯片量产工艺、封装测试技术，全链条的每一个环节，都清晰标注了突破节点、技术路径与责任分工，没有一句空话，全是可落地的执行方案。
“西方的全产业链封锁，看似密不透风，实则处处都是突破口。”陆泽的声音沉稳有力，清晰地传遍整个会议室，“我们不搞尾随式的追赶，不走西方已经布局满了专利陷阱的老路，直接走完全自主创新的全新技术路线。攻坚分两步走：第一步，三个月内实现全流程EDA软件、28nmDUV光刻机的全国产化落地，保住国内成熟制程生产线的基本盘；第二步，一年内完成EUV光刻机原理样机研发，两年内实现7nm、5nm先进制程全链条国产化，彻底打破西方的技术垄断。”
话音落下的瞬间，会议室里一片哗然。可当陆泽将系统解锁的两份半导体顶级院士存档中的核心技术框架，拆解成通俗易懂的技术路径，一条条展现在众人面前时，所有的质疑都渐渐化作了震撼。这套方案不仅完全绕开了西方布局的数万项专利壁垒，技术路线比国外现有路线更先进、更高效，更是精准戳中了国内卡了几十年的技术痛点，每一个环节的解决方案，都精准到了可直接落地执行的程度。
会议当场敲定了七大攻坚分队，从EDA软件、光刻机核心部件、材料研发、制程工艺，到上下游产业协同、专利布局、量产落地，全链条覆盖，陆泽亲自挂帅统筹，率先打响了半导体突围战的第一枪——攻克芯片设计EDA软件。
EDA软件是芯片设计的源头，也是西方封锁的第一道闸门。在此之前，国内芯片设计企业100%依赖海外三大厂商的产品，断供令一出，国内数百家芯片设计企业几乎陷入了无工具可用的绝境，不少企业的芯片研发项目直接停滞。业内曾有过预估，想要做出一套覆盖芯片设计全流程、兼容先进制程的EDA软件，至少需要五年以上的时间，还要投入数百亿的研发资金。
可陆泽带着团队进驻国家微电子科研基地后，凭借系统解锁的全自主EDA架构核心技术，日夜连轴攻坚。原本业内预估至少五年才能完成的目标，陆泽带队只用了短短二十天，就完成了EDA软件的核心架构开发与全功能验证，不仅完整覆盖了芯片设计从前端到后端的全流程，还完美兼容国产光刻机的制程工艺，彻底摆脱了对海外技术的依赖，甚至在部分核心功能上，实现了对海外同类产品的超越。
全国产EDA软件研发成功的消息传出，国内芯片设计行业一片欢腾，数百家企业第一时间发来合作申请，停滞的研发项目陆续重启。可西方半导体行业却满是不屑与嘲讽，欧荷光科集团的CEO在全球行业峰会上公开放话，称没有高端光刻机的支撑，再完善的EDA软件也只是空中楼阁，中国就算做出了EDA软件，也永远跨不过高端光刻机这道门槛，只能困在低端制程里原地踏步。
面对西方的嘲讽与唱衰，陆泽毫不在意。他没有丝毫停歇，带着七大攻坚分队，向着光刻机最核心的三大部件，发起了全面同步冲锋。他没有纠结于国外沿用了几十年的传统技术路线，直接定下了完全自主的全新研发方向，从根源上绕开了西方的专利壁垒，将光刻物镜、EUV光源、双工件台三大核心部件的攻坚任务同步拆分，亲自坐镇统筹每一个环节的推进。
国内顶尖光学院所联合组建的光刻物镜分队，仅用一个多月就完成了EUV光刻物镜的全套设计与超精密加工，面型精度达到了行业顶尖水准，彻底打破了海外企业数十年的光学垄断；EUV光源分队放弃了国外传统的技术架构，采用全新的激光轰击方案，两个月内就完成了300W商用级极紫外光源的研发与稳定点亮，核心性能指标全面超越海外同类产品；双工件台分队同步推进，顺利攻克了高速运动下的纳米级精度控制难题，三个月内完成了全国产双工件台的研发落地，重复定位精度达到了行业一流水准。
三大核心部件的接连突破，全程没有依赖任何海外技术、配件与原材料，实现了100%自主可控。与此同时，陆泽同步统筹了半导体全产业链的配套攻坚，光刻胶、高纯度单晶硅片、离子注入机、刻蚀机、薄膜沉积设备等核心材料与设备，在国内上下游企业的全力配合下，短短半年内陆续实现国产化突破，一个个卡了国内行业十几年的环节，被接连打通。之前因海外封锁濒临停摆的国内芯片生产线，陆续换上了全国产的设备与材料，重新恢复了满负荷运转，整个国内半导体行业，彻底走出了封锁带来的阴霾。
从最开始的冷眼旁观，到接连不断的技术突破传来，西方半导体行业从最初的嘲讽，渐渐变成了震惊，最终陷入了恐慌。欧荷光科集团的股价接连暴跌，海外半导体巨头的对华营收大幅缩水，欧美多国紧急召开行业会议，想要再次加码技术制裁，却绝望地发现，中国半导体产业已经实现了从设计、制造到材料、封装的全链条自主可控，再也没有能卡脖子的环节。国内民众与行业则一片欢腾，无数企业与科研院所发来贺电，中央也多次对攻坚团队的成果表示高度肯定，陆泽也成为了这场半导体突围战中，当之无愧的核心领军人物。
三大核心部件全部到位，全产业链配套全部打通，陆泽带着团队，正式启动了全国产EUV光刻机的整机集成与调试工作，距离国产高端光刻机正式落地，只差最后一步。而不肯就此罢休的西方势力，也已然酝酿起了新的阻碍，一场围绕国产高端光刻机落地的新博弈，悄然拉开了序幕。
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